PEELING QUÍMICO

El nuevo crecimiento de la piel puede reemplazar las áreas dañadas y los defectos leves.

El principio del peeling químico es el de aplicar agentes químicos especiales en la piel para así producir epidermólisis y recambio cutáneo. El nuevo crecimiento de la piel puede reemplazar las áreas dañadas y los defectos leves, produciendo una mejoría cosmética.

El peeling químico puede dividirse en tres tipos de acuerdo a la profundidad de la reacción.

• El primer tipo es el peeling superficial, con una profundidad de acción que va desde la capa granular a la dermis papilar. Los agentes químicos disponibles son el ácido glicólico, 10% - 25% TCA, solución de Jessner y el ácido salicílico.
• El segundo tipo es el peeling medio profundo, en el que la reacción alcanza la dermis reticular superior, los agentes disponibles son de TCA al 35% - 50%, TCA 35% combinado con CO2 sólido, el ácido glicólico al 70% o la solución de Jessner.
• El tercer tipo es el peeling profundo y es usualmente denominado como el peeling fenol. La profundidad de la reacción puede alcanzar la dermis reticular media. La población usualmente desarrolla hiperpigmentación y cicatrización más pronunciada después de los peeling químicos medios y profundos, indicándonos que deberíamos poner mayor atención para evitar efectos colaterales similares en este grupo. Los peeling químicos superficiales, incluyendo el del ácido glicólico y el TCA, son comparativamente más seguros y tienen mínimos efectos colaterales, siempre y cuando sean practicados por médicos con experiencia.

Indicado en:

• Acné y sus síntomas asociados
• Melasma y otros problemas pigmentarios
• Piel fotoenvejecida
• Cicatrices superficiales